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光学微电子净化无尘车间技术解决方案

发表时间: 2020-08-31

光学微电子净化车间亦名光学微电子无尘室或光学微电子洁净室,目前已是半导体、精密电子元件、液晶制造、光学仪器制造、线路板制造和手机、计算机等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术之创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型积体电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目,而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于优势地位。

光学微电子净化无尘车间技术解决方案

光学微电子净化工程一般包括:

1、 洁净生产区

2、 洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)风淋室

3、 管理区(包括办公、值班、管理和休息等)

4、 设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)

光学微电子净化工程净化原理:

气流→初效空气过滤器净化→空调→中效空气过滤器净化→风机送风→管道→高效空气过滤器净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒 → 回风百叶窗→初效空气过滤器净化 重复以上过程,即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa

平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。

温度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

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